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IBM said researchers feared that 7-nanometer chips would be out of reach due to fundamental barriers of technology. But IBM said it used new semiconductor processes and techniques pioneered by IBM Research. It capitalized on past innovations such as silicon germanium (SiGe), channel transistors, and Extreme Ultraviolet (EUV) lithography integration at multiple levels. Those innovations helped IBM cut 50 percent of the chip size compared to the best 10-nanometer technology currently available.
IBMによると、根本的な技術的障壁によって7ナノメーターチップは作成が不可能であるという声も研究者の間には上がっていたという。しかしながらIBMは、IBM Researchによって開拓された新しい半導体加工技術を駆使したという。シリコンゲルマニウム(SiGe)やチャネルトランジスタ、極端紫外線(EUV)リソグラフィの統合といった従来の革新的技術を多段階で駆使したのである。それによりIBMはチップのサイズを現在流通している最高の10ナノメーターテクノロジーを使った製品との比較で50%も小型化することに成功した。
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http://venturebeat.com/2015/07/08/after-10-breakthroughs-and-3b-in-research-ibm-announces-tiny-7-nanometer-chips/