翻訳者レビュー ( 英語 → 日本語 )

備考: ITRS2009のdesignの一部です。　公式の訳が意味不明だったので、工業外国語に強い方お願いします。

英語

Previous editions of the ITRS have noted a design productivity gap—the number of available transistors growing faster than the ability to meaningfully design them.
This gap impacts IC product value, placing at risk foundry amortization, return-on-investment (ROI) for supplier industries, and indeed the entire semiconductor investment cycle.
Yet, investment in process technology continues to dominate investment in design technology.
The DT roadmap enables control of design costs, as shown in Figure DESN1. In the figure:

日本語

前年までのITRSでは設計と生産性のギャップについて記述していた−集積可能なトランジスタの数の拡大のスピードはそれらを有用な設計にまとめる能力の向上のスピードを上回っているのである。
このギャップはIC製品の価値に悪影響を与えており、ファウンドリの償却、原料業界の投資の回収、ひいては半導体業界全体の投資サイクルをリスクにさらしている。
それでもプロセス技術に対する投資は設計技術に対する投資よりも優先され続ける。
この設計技術のロードマップは図DESN.1に示すように設計コストのコントロールを可能にする。図において：